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−2014年1月のニュース

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過去のニュース−2014年1月

1月27日
NEDOは、戦略的省エネルギー技術革新プログラム「革新的高性能有機トランジスタを用いたプラスティック電子タグの開発」プロジェクトにおいて、印刷で製造可能な高性能有機薄膜トランジスタ回路が開発され、商用周波数(13.56MHz)での個体識別信号の伝送に成功したことを公表した。今回開発されたトランジスタは、従来の塗布型有機半導体と比べて10倍以上の性能を持つだけでなく、印刷による形成で1/10以下に製造コストの低減が可能とされています。
1月23日
NEDOは、単層CNT融合新材料研究開発機構(TASC)と(独)産業技術総合研究所とが、リソグラフィー技術で形状加工した単層CNTと銅を複合化することで、銅の100倍電流を流せる単層CNT銅複合材料の微細配線加工技術を確立したことを公表した。また、CNTと銅の複合化により銅の熱膨張が抑制され、単層CNT銅複合材料の熱膨張係数がSiと同程度であることを明らかにした。単層カーボンナノチューブ(CNT)と銅の複合材料を用いて、銅の100倍の電流を流すことが可能な微細配線を基板上に作製する技術を開発したことを公表した。本成果は、2014年1月29〜31日に東京ビッグサイトで開催される「nano tech 2014 第13回国際ナノテクノロジー総合展・技術会議」に展示されることになっています。
1月15日
特許出願等統計速報が公表された。平成25.1〜25.11(年累計)では、特許・実用新案:305,298、意匠登録:28,274、商標登録:107,711。平成25.4〜25.11(年度累計)では、特許・実用新案:214,850、意匠登録:20,831、商標登録:79,890。年累計は、特許・実用新案の合計出願件数は5%程度減、意匠の出願件数は4.5%程度減、商標の出願件数は1%程度減。年度累計では、特許・実用新案の合計出願件数は3%程度減、意匠の出願件数は4.5%程度減、商標の出願件数は1%程度減です。国際出願件数は、平成25.1〜25.11(年累計)では、特許(受理官庁):39,370、商標登録(本国官庁):1,689。平成25.4〜25.11(年度累計)では、特許(受理官庁):27,320、商標登録(本国官庁):1,236。国際出願件数は、年度累計では、前年度に比べ、特許(受理官庁)は2%程度減少、商標登録(本国官庁)は12%程度減少しています。
1月14日
昨秋の臨時国会で成立した産業競争力強化法で定められた「特許料等の軽減措置」の詳細が本日決定した。その内容は、中小・ベンチャー企業や小規模企業等の審査請求料・特許料(1〜10 年分)・調査手数料、送付手数料・予備審査手数料が1/3 に軽減されるというものです。本軽減措置は、平成26 年4 月から平成30 年3 月までに特許の審査請求又は国際出願を行う場合が対象になります。特許料の軽減に関しては、平成26 年4 月から平成30 年3 月までに特許の審査請求を行った案件が対象になります。

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