浅尾国際特許商標事務所は、神奈川県から特許・実用新案・意匠・商標などの知的財産の創造・保護・活用を支援する国際特許事務所です。　　　　　　　　　

過去のニュース−2014年5月

5月30日

特許出願等統計速報が公表された。平成26.1〜26.3（年累計）では、特許・実用新案：90,703、意匠登録：7,231、商標登録：28,717。平成25.4〜26.3（年度累計）では、特許・実用新案：336,313、意匠登録：30,913、商標登録：118,570。年累計は、前年に比べ、特許・実用新案の合計出願件数は横ばい、意匠の出願件数は3％程度減、商標の出願件数は3％程度増。年度累計では、前年度に比べ、特許・実用新案の合計出願件数は2％程度減、意匠の出願件数は4％程度減、商標の出願件数は横ばいです。国際出願件数は、平成26.1〜26.3（年累計）では、特許（受理官庁）：11,538、商標登録（本国官庁）：438。平成25.4〜26.3（年度累計）では、特許（受理官庁）：42,563、商標登録（本国官庁）：1,866。国際出願件数は、年度累計では、前年度に比べ、特許（受理官庁）は3％程度減少、商標登録（本国官庁）は9％程度減少しています。

5月21日

NEDOは、有機ケイ素機能性化学品製造プロセス技術開発プロジェクトにおいて、有機ケイ素材料の原料として有望なテトラアルコキシシランを効率的に製造する技術が開発されたことを公表した。この技術では、シリカとメタノールの反応系に有機脱水剤としてアセトンジメチルアセタール（アセタール）を添加し、二酸化炭素加圧下（2MPa）、少量のテトラメトキシチタン及び水酸化カリウムの存在下242℃で反応を行うことにより、テトラメトキシシランの収率が最高で88%（シリカ基準）に達したことが確認されています。この技術の詳細は、5月22〜23日に東京国際フォーラムで開催される第3回JACI/GSCシンポジウムで発表されることになっています。

5月13日

特許庁は、国際標準化機構（ ISO ）がISO の規格文書等を特許庁に包括的に提供することにより特許庁が特許審査に当該規格文書等を利用できるようにすることを、特許庁とISOとが合意したことを公表した。これにより、規格文書に加え、従来取得困難であった規格策定プロセスで提出された技術文書も特許審査に利用可能となります。また、ISOの規格文書を根拠とする拒絶理由の通知を受けた出願人は、当該規格文書のコピーの入手が可能になります。

5月8日

NEDOは、表面を薄い撥水性ポリマーの膜で覆った基板上に、金属ナノインクを塗布して、精密な電極を形成する、新しいプロセスが開発されたことを公表した。この昇温を必要としないプロセスにより、フレキシブルな基板への精密な電極印刷が可能になりました。